文献
J-GLOBAL ID:201002068865201431
整理番号:80A0295829
分子ビームエピタクシーにより形成したシリコン膜の結晶欠陥
Crystal defects of silicon films formed by molecular beam epitaxy.
著者 (2件):
SUGIURA H
(Ibaraki Electrical Communication Lab.)
,
YAMAGUCHI M
(Ibaraki Electrical Communication Lab.)
資料名:
Jpn J Appl Phys
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
19
号:
4
ページ:
583-589
発行年:
1980年
JST資料番号:
G0520A
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)