文献
J-GLOBAL ID:201002071064117413
整理番号:80A0257891
サブミクロンのパターンを持つIC作製のためのイオンビームリソグラフィー
Ion-beam lithography for IC fabrication with submicrometer features.
著者 (5件):
RENSCH D B
(Hughes Research Lab., California)
,
SELIGER R L
(Hughes Research Lab., California)
,
CSANKY G
(Hughes Research Lab., California)
,
OLNEY R D
(Hughes Research Lab., California)
,
STOVER H L
(Hughes Research Lab., California)
資料名:
J Vac Sci Technol
(Journal of Vacuum Science & Technology)
巻:
16
号:
6
ページ:
1897-1900
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0789A
ISSN:
0022-5355
CODEN:
JVSTA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)