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文献
J-GLOBAL ID：201002071399032790
整理番号：80A0353130
Si(111)/CoSi2/Si構造におけるダブルヘテロエピタクシー
Double heteroepitaxy in the Si(111)/CoSi2/Si structure.
SAITOH S
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama)
,
ISHIWARA H
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama)
,
FURUKAWA S
(Tokyo Inst. Technology, Yokohama)
資料名：
Appl Phys Lett
(Applied Physics Letters)
巻： 37 号： 2 ページ： 203-205 発行年： 1980年
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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