文献
J-GLOBAL ID:201002089144985757
整理番号:80A0208355
ニッケルおよびパーマロイ薄膜におけるFaraday効果の分散
Faraday effect dispersion in nickel and permalloy thin films.
著者 (2件):
BRIN M
(Stevens Inst. Technology, New Jersey)
,
JURETSCHKE H J
(Polytechnic Inst. New York)
資料名:
J Appl Phys
(Journal of Applied Physics)
巻:
50
号:
11 Pt 2
ページ:
7469-7470
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)