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文献
J-GLOBAL ID：201002091202361500
整理番号：79A0264379
電子ビーム・リソグラフィーにおける相互近接効果の基礎的研究
Fundamental studies of the interproximity effect in electron-beam lithography.
NOMURA E
,
MURATA K
,
NAGAMI K
資料名：
Jpn J Appl Phys
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 18 号： 7 ページ： 1353-1360 発行年： 1979年
JST資料番号： G0520A CODEN： JJAPA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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