文献
J-GLOBAL ID:201002091277161930
整理番号:80A0015383
可変く形電子ビームによるLSIパターンの高速描画における最適ビーム寸法
Optimum beam size for high-speed drawing of LSI patterns by variably shaped rectangular electron beams.
著者 (3件):
HOH K
(VLSI Technology Research Asso., Kawasaki)
,
SUGIYAMA N
(VLSI Technology Research Asso., Kawasaki)
,
TARUI Y
(VLSI Technology Research Asso., Kawasaki)
資料名:
IEEE Trans Electron Devices
(IRE Transactions on Electron Devices)
巻:
26
号:
9
ページ:
1363-1365
発行年:
1979年
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)