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文献
J-GLOBAL ID：201002203653163690
整理番号：10A1032276
MEMS応用のためRFスパッタリングでステンレス鋼とシリコン基板上に蒸着したNbドープPb(Zr,Ti)O3膜のキャラクタリゼーション
Characterization of Nb-doped Pb(Zr,Ti)O3 films deposited on stainless steel and silicon substrates by RF-magnetron sputtering for MEMS applications
FUJII Takamichi
(FUJIFILM CORPORATION, 577 Ushijima, Kaisei-machi, Ashigarakami-gun, Kanagawa 258-8577, JPN)
,
HISHINUMA Yoshikazu
(FUJIFILM CORPORATION, 577 Ushijima, Kaisei-machi, Ashigarakami-gun, Kanagawa 258-8577, JPN)
,
MITA Tsuyoshi
(FUJIFILM CORPORATION, 577 Ushijima, Kaisei-machi, Ashigarakami-gun, Kanagawa 258-8577, JPN)
,
NAONO Takayuki
(FUJIFILM CORPORATION, 577 Ushijima, Kaisei-machi, Ashigarakami-gun, Kanagawa 258-8577, JPN)
資料名：
Sensors and Actuators. A. Physical
(Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： 163 号： 1 ページ： 220-225 発行年： 2010年09月
JST資料番号： B0345C ISSN： 0924-4247 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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