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文献
J-GLOBAL ID：201002206802610122
整理番号：10A0136001
Y1Ba2Cu3O7-δ薄膜に対する最適アニーリング条件
Optimal annealing conditions for Y1Ba2Cu3O7-δ thin films
MORI Zon
(Kumamoto National Coll. of Technol., Yatsushiro, Kumamoto 866-8501, JPN)
,
DOI Toshiya
(Fac. of Engineering, Kagoshima Univ., Koorimoto, Kagoshima 890-0065, JPN)
,
HAKURAKU Yoshinori
(Fac. of Engineering, Kagoshima Univ., Koorimoto, Kagoshima 890-0065, JPN)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 107 号： 2 ページ： 023903 発行年： 2010年01月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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