文献
J-GLOBAL ID:201002215197667159
整理番号:10A0840284
付加的遮断ゲートを持つ高度にスケール可能な三次元NAND-NOR混成型二ビット/セルのフラッシュメモリ素子
Highly Scalable 3-D NAND-NOR Hybrid-Type Dual Bit per Cell Flash Memory Devices with an Additional Cut-Off Gate
著者 (5件):
CHO Seongjae
(Seoul National Univ., Seoul)
,
SHIM Won Bo
(Seoul National Univ., Seoul)
,
PARK Il Han
(Seoul National Univ., Seoul)
,
KIM Yoon
(Seoul National Univ., Seoul)
,
PARK Byung-Gook
(Seoul National Univ., Seoul)
資料名:
Journal of the Korean Physical Society
(Journal of the Korean Physical Society)
巻:
56
号:
1
ページ:
137-141
発行年:
2010年01月15日
JST資料番号:
T0357A
ISSN:
0374-4884
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
韓国 (KOR)
言語:
英語 (EN)