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文献
J-GLOBAL ID:201002215197667159   整理番号:10A0840284

付加的遮断ゲートを持つ高度にスケール可能な三次元NAND-NOR混成型二ビット/セルのフラッシュメモリ素子

Highly Scalable 3-D NAND-NOR Hybrid-Type Dual Bit per Cell Flash Memory Devices with an Additional Cut-Off Gate
著者 (5件):
CHO Seongjae
(Seoul National Univ., Seoul)
SHIM Won Bo
(Seoul National Univ., Seoul)
PARK Il Han
(Seoul National Univ., Seoul)
KIM Yoon
(Seoul National Univ., Seoul)
PARK Byung-Gook
(Seoul National Univ., Seoul)

資料名:
Journal of the Korean Physical Society  (Journal of the Korean Physical Society)

巻: 56  号:ページ: 137-141  発行年: 2010年01月15日 
JST資料番号: T0357A  ISSN: 0374-4884  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 韓国 (KOR)  言語: 英語 (EN)
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