文献
J-GLOBAL ID:201002215303738974
整理番号:10A0850082
MeRITを活用したリペア歩留り強化によるマスク歩留りの向上
Increasing Mask Yield Through Repair Yield Enhancement Utilizing the McRiT
著者 (4件):
GARETTO Anthony
(Carl Zeiss SMT Inc., MA)
,
OSTER Jens
(Carl Zeiss SMS, NaWoTec GmbH, Rossdorf, DEU)
,
WAIBLINGER Markus
(Carl Zeiss SMS GmbH, Jena, DEU)
,
EDINGER Klaus
(Carl Zeiss SMS, NaWoTec GmbH, Rossdorf, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7545
ページ:
75450H.1-75450H.9
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)