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文献
J-GLOBAL ID：201002216632913708
整理番号：10A1456375
イリジウムの原子層沈着(ALD)における前駆体としての(MeCp)Ir(CHD)及び酸素分子
(MeCp)Ir(CHD) and molecular oxygen as precursors in atomic layer deposition of iridium
HAEMAELAEINEN Jani
(Univ. Helsinki, FIN)
,
HATANPAEAE Timo
(Univ. Helsinki, FIN)
,
PUUKILAINEN Esa
(Univ. Helsinki, FIN)
,
COSTELLE Leila
(Univ. Helsinki, FIN)
,
PILVI Tero
(Univ. Helsinki, FIN)
,
RITALA Mikko
(Univ. Helsinki, FIN)
,
LESKELAE Markku
(Univ. Helsinki, FIN)
資料名：
Journal of Materials Chemistry
(Journal of Materials Chemistry)
巻： 20 号： 36 ページ： 7669-7675 発行年： 2010年09月28日
JST資料番号： W0204A ISSN： 0959-9428 CODEN： JMACEP 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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