文献
J-GLOBAL ID:201002220418736103
整理番号:10A0127863
高出力パルスマグネトロンスパッタリング:科学的および工学的な現状のレビュー
High power pulsed magnetron sputtering: A review on scientific and engineering state of the art
著者 (3件):
SARAKINOS K.
(Materials Chemistry, RWTH Aachen Univ., 52074 Aachen, DEU)
,
ALAMI J.
(Sulzer Metaplas GmbH, Am Boettcherberg 30-38, 51427, Bergisch Gladbach, DEU)
,
KONSTANTINIDIS S.
(Lab. de Chimie Inorganique et Analytique, Univ. de Mons, Avenue Copernic 1, 7000 Mons, BEL)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
204
号:
11
ページ:
1661-1684
発行年:
2010年02月25日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)