文献
J-GLOBAL ID:201002220827618147
整理番号:10A0731618
DUV,EUV,電子ビーム撮像用の無機フォトレジストの開発
Development of an inorganic photoresist for DUV, EUV, and electron beam imaging
著者 (10件):
TRIKERIOTIS Markos
(Cornell Univ., New York, USA)
,
BAE Woo Jin
(Cornell Univ., New York, USA)
,
SCHWARTZ Evan
(Cornell Univ., New York, USA)
,
KRYSAK Marie
(Cornell Univ., New York, USA)
,
LAFFERTY Neal
(Rochester Inst. Technol., New York, USA)
,
XIE Peng
(Rochester Inst. Technol., New York, USA)
,
SMITH Bruce
(Rochester Inst. Technol., New York, USA)
,
ZIMMERMAN Paul
(SEMATECH, Inc.)
,
OBER Christopher K.
(Cornell Univ., New York, USA)
,
GIANNELIS Emmanuel P.
(Cornell Univ., New York, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7639
号:
Pt.1
ページ:
76390E.1-76390E.10
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)