文献
J-GLOBAL ID:201002222363182572
整理番号:10A0781177
ベンジルラジカルの反応性:複素環塩基を有する一次,二次及び三次ベンジルラジカルのトラッピング
Reactivity of benzyl radicals: The trapping of primary, secondary and tertiary benzyl radicals with heterocyclic bases
著者 (9件):
BRIVIO Luigi
(Dipartimento di Ingegneria Industriale, Universita di Bergamo, viale Marconi 5, 24044 Dalmine, BG, ITA)
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CARONNA Tullio
(Dipartimento di Ingegneria Industriale, Universita di Bergamo, viale Marconi 5, 24044 Dalmine, BG, ITA)
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FONTANA Francesca
(Dipartimento di Ingegneria Industriale, Universita di Bergamo, viale Marconi 5, 24044 Dalmine, BG, ITA)
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GAMBAROTTI Cristian
(Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica “Giulio Natta”, Politecnico di Milano, via L. Mancinelli 7 ...)
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MELE Andrea
(Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica “Giulio Natta”, Politecnico di Milano, via L. Mancinelli 7 ...)
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MELE Andrea
(CNR-ICRM Istituto di Chimica del Riconoscimento Molecolare, via L. Mancinelli 7, 20131 Milano, ITA)
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SORA Isabella Natali
(Dipartimento di Ingegneria Industriale, Universita di Bergamo, viale Marconi 5, 24044 Dalmine, BG, ITA)
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PUNTA Carlo
(Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica “Giulio Natta”, Politecnico di Milano, via L. Mancinelli 7 ...)
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RECUPERO Francesco
(Dipartimento di Chimica, Materiali e Ingegneria Chimica “Giulio Natta”, Politecnico di Milano, via L. Mancinelli 7 ...)
資料名:
Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry
(Journal of Photochemistry and Photobiology. A. Chemistry)
巻:
214
号:
1
ページ:
112-114
発行年:
2010年07月05日
JST資料番号:
D0721B
ISSN:
1010-6030
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)