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文献
J-GLOBAL ID：201002223906500355
整理番号：10A0435234
アンバランスマグネトロンスパッタリングにより調製したTiN膜の微細構造と特性に及ぼす焼鈍処理の効果
The effect of annealing treatment on microstructure and properties of TiN films prepared by unbalanced magnetron sputtering
XI Yingxue
(State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...)
,
XI Yingxue
(Shaanxi Province Thin Film Technol. and Optical Test Open Key Lab., School of Optoelectronic Engineering, Xi’an ...)
,
FAN Huiqing
(State Key Lab. of Solidification Processing, School of Materials Sci. and Engineering, Northwestern Polytechnical ...)
,
LIU Weiguo
(Shaanxi Province Thin Film Technol. and Optical Test Open Key Lab., School of Optoelectronic Engineering, Xi’an ...)
資料名：
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻： 496 号： 1-2 ページ： 695-698 発行年： 2010年04月30日
JST資料番号： D0083A ISSN： 0925-8388 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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