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文献
J-GLOBAL ID:201002223996461043   整理番号:10A0019439

光電子放出介助の化学蒸着によるSi及びSiO2基板上のネットワーク化ナノグラファイトの触媒フリー成長

Catalyst-Free Growth of Networked Nanographite on Si and SiO2 Substrates by Photoemission-Assisted Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
著者 (16件):
TAKAMI Tomohide
(Core Res. for Evolutionary Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, JPN)
TAKAMI Tomohide
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., JPN)
OGAWA Shuichi
(Core Res. for Evolutionary Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, JPN)
OGAWA Shuichi
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., JPN)
SUMI Haruki
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., JPN)
KAGA Toshiteru
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., JPN)
SAIKUBO Akihiko
(Core Res. for Evolutionary Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, JPN)
SAIKUBO Akihiko
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., JPN)
IKENAGA Eiji
(Core Res. for Evolutionary Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, JPN)
IKENAGA Eiji
(Japan Synchrotron Radiation Res. Inst., JPN)
SATO Motonobu
(Core Res. for Evolutionary Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, JPN)
SATO Motonobu
(Fujitsu Ltd., JPN)
NIHEI Mizuhisa
(Core Res. for Evolutionary Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, JPN)
NIHEI Mizuhisa
(Fujitsu Ltd., JPN)
TAKAKUWA Yuji
(Core Res. for Evolutionary Sci. and Technol., Japan Sci. and Technol. Agency, JPN)
TAKAKUWA Yuji
(Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., JPN)

資料名:
e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web)  (e-Journal of Surface Science and Nanotechnology (Web))

巻:ページ: 882-890 (J-STAGE)  発行年: 2009年 
JST資料番号: U0016A  ISSN: 1348-0391  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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