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文献
J-GLOBAL ID：201002227112490733
整理番号：10A0852416
ナノインプリントリソグラフィースタンプ作製用の干渉リソグラフィーにおけるアンダカット現象の除去
Eliminating the undercut phenomenon in interference lithography for the fabrication of nano-imprint lithography stamp
JANG Hwan Soo
(Div. of Nano & Bio Technol., Daegu-Gyeongbuk Inst. of Sci. and Technol., Dalseo-gu, Daegu 704-230, KOR)
,
KIM Gee Hong
(Nano-Mechanical Systems Res. Div., Korea Inst. of Machinery and Materials, 171 Jang-dong Yu-song Gu, Daejeon 305-343 ...)
,
LEE Jaejong
(Nano-Mechanical Systems Res. Div., Korea Inst. of Machinery and Materials, 171 Jang-dong Yu-song Gu, Daejeon 305-343 ...)
,
CHOI Kee Bong
(Nano-Mechanical Systems Res. Div., Korea Inst. of Machinery and Materials, 171 Jang-dong Yu-song Gu, Daejeon 305-343 ...)
資料名：
Current Applied Physics
(Current Applied Physics)
巻： 10 号： 6 ページ： 1436-1441 発行年： 2010年11月
JST資料番号： W1579A ISSN： 1567-1739 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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