文献
J-GLOBAL ID:201002227801261423
整理番号:10A0176377
エアロゾル析出法における膜の成長速度への前処理による影響
Effects of Pretreatments on deposition rate of Films in Aerosol Deposition Method
著者 (5件):
MIHARA Kensuke
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
HOSHINA Takuya
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KAKEMOTO Hirofumi
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
TAKEDA Hiroaki
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
TSURUMI Takaaki
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名:
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻:
421/422
ページ:
165-168
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0744C
ISSN:
1013-9826
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)