文献
J-GLOBAL ID:201002228181165417
整理番号:10A1012558
SiGe/Si/SiGe量子井戸での二次電子気体の移動度と金属-絶縁体転移
Mobility and metal-insulator transition of the two-dimensional electron gas in SiGe/Si/SiGe quantum wells
著者 (1件):
GOLD A.
(Centre d’Elaboration de Materiaux et d’Etudes Structurales (CEMES-CNRS), 29 Rue Jeanne Marvig, 31055 Toulouse ...)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
108
号:
6
ページ:
063710
発行年:
2010年09月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)