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文献
J-GLOBAL ID：201002229658599615
整理番号：10A0013116
POSS含有ブロック共重合体の自己集合を利用する一段階直接パターン形成用テンプレート
One-Step Direct-Patterning Template Utilizing Self-Assembly of POSS-Containing Block Copolymers
HIRAI Tomoyasu
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
LEOLUKMAN Melvina
(Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
,
LIU Chi Chun
(Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
,
HAN Eungnak
(Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
,
KIM Yun Jun
(Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
,
ISHIDA Yoshihito
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
HAYAKAWA Teruaki
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
KAKIMOTO Masa-aki
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
NEALEY Paul F.
(Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
,
GOPALAN Padma
(Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
資料名：
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻： 21 号： 43 ページ： 4334-4338 発行年： 2009年11月20日
JST資料番号： W0001A ISSN： 0935-9648 CODEN： ADVMEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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