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文献
J-GLOBAL ID：201002230041632192
整理番号：10A0776374
Coドープ非晶質炭素膜におけるバイアス依存低磁場正磁気抵抗の観測
Observation of bias-dependent low field positive magneto-resistance in Co-doped amorphous carbon films
HSU H. S.
(Dep. of Applied Physics, National Pingtung Univ. of Education, Pingtung 900, Taiwan)
,
CHUNG P. Y.
(Dep. of Applied Physics, National Pingtung Univ. of Education, Pingtung 900, Taiwan)
,
ZHANG J. H.
(Dep. of Applied Physics, National Pingtung Univ. of Education, Pingtung 900, Taiwan)
,
SUN S. J.
(Dep. of Applied Physics, National Univ. of Kaohsiung, Kaohsiung 811, Taiwan)
,
CHOU H.
(Dep. of Physics and Center of Nanoscience and Nanotechnology, National Sun-Yat-Sen Univ., Kaoshiung 803, Taiwan)
,
SU H. C.
(Industrial Application Office, National Synchrotron Radiation Res. Center, Hsinchu 300, Taiwan)
,
LEE C. H.
(Dep. of Engineering and System Sci., National Tsing-Hua Univ., HsinChu 300, Taiwan)
,
CHEN J.
(Corporate R&D/Advanced Package Technol. Div., Advanced Semiconductor Engineering Inc., Kaohsiung 811, Taiwan)
,
HUANG J. C. A.
(Dep. of Physics and Advanced Optoelectronic Technol. Center, National Cheng Kung Univ., Tainan 701, Taiwan)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 97 号： 3 ページ： 032503 発行年： 2010年07月19日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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