文献
J-GLOBAL ID:201002231317623091
整理番号:10A0490978
Cu(Ti)/多孔質低k試料におけるチタンリッチバリア層の自己形成に対するポアシーリングの影響
Effects of Pore Sealing on Self-Formation of Ti-Rich Barrier Layers in Cu(Ti)/Porous-Low-k Samples
著者 (8件):
KOHAMA Kazuyuki
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ITO Kazuhiro
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
SONOBAYASHI Yutaka
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TANAKA Tomohisa
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MORI Kenichi
(Renesas Technol. Corp., Hyogo, JPN)
,
MAEKAWA Kazuyoshi
(Renesas Technol. Corp., Hyogo, JPN)
,
SHIRAI Yasuharu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
MURAKAMI Masanori
(Ritsumeikan Trust, Kyoto, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
49
号:
4,Issue 2
ページ:
04DB09.1-04DB09.6
発行年:
2010年04月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)