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文献
J-GLOBAL ID：201002234578854820
整理番号：10A0389948
超高真空における市販水素化物気相エピタクシー及び有機金属化学蒸着基板からの清浄GaN(0001)を得るための表面処理
Surface treatments toward obtaining clean GaN(0001) from commercial hydride vapor phase epitaxy and metal-organic chemical vapor deposition substrates in ultrahigh vacuum
HATTORI Azusa N.
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Yamada-oka 2-1 ...)
,
ENDO Katsuyoshi
(Res. Center for Ultra-Precision Sci. and Technol., Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Yamada-oka 2-1 ...)
,
HATTORI Ken
(Graduate School of Materials Sci., Nara Inst. of Sci. and Technol., Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, JPN)
,
DAIMON Hiroshi
(Graduate School of Materials Sci., Nara Inst. of Sci. and Technol., Takayama 8916-5, Ikoma, Nara 630-0192, JPN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 256 号： 14 ページ： 4745-4756 発行年： 2010年05月01日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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