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文献
J-GLOBAL ID：201002236169522673
整理番号：10A0176376
ペルヒドロポリシラザンを用いたゾル-ゲル法によるPBT基板へのシリカ膜の作製と特性評価
Preparation and Characterization of Silica Film on PBT Substrate by Sol-Gel Method Using Perhydropolysilazane
HORIKAWA Hajime
(Univ. Fukui, Fukui, JPN)
,
OGIHARA Takashi
(Univ. Fukui, Fukui, JPN)
,
SHIMOMURA Akio
(Shimomura Shikkiten, Co., Ltd, Fukui, JPN)
,
SHIMOMURA Junko
(Shimomura Shikkiten, Co., Ltd, Fukui, JPN)
資料名：
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻： 421/422 ページ： 161-164 発行年： 2010年
JST資料番号： D0744C ISSN： 1013-9826 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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