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文献
J-GLOBAL ID：201002237113201854
整理番号：10A0268703
化学機械平坦化: スラリー化学,物質及び機構
Chemical Mechanical Planarization: Slurry Chemistry, Materials, and Mechanisms
KRISHNAN Mahadevaiyer
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
,
NALASKOWSKI Jakub W.
(IBM T.J. Watson Res. Center, New York)
,
COOK Lee M.
(Dow Electronic Materials, Delaware)
資料名：
Chemical Reviews
(Chemical Reviews)
巻： 110 号： 1 ページ： 178-204 発行年： 2010年01月
JST資料番号： B0256A ISSN： 0009-2665 CODEN： CHREAY 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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