文献
J-GLOBAL ID:201002237907741268
整理番号:10A0710794
スルホン酸型有機超酸に基づく193nmのリソグラフィー用フッ素代替光酸発生
Fluorine-free Photoacid Generators for 193nm Lithography Based on Non-Sulfonate Organic Superacids
著者 (3件):
GLODDE Martin
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY, USA)
,
LIU Sen
(IBM STG/SRDC, NY, USA)
,
VARANASI Pushkara Rao
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY, USA)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
23
号:
2
ページ:
173-184
発行年:
2010年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)