文献
J-GLOBAL ID:201002238603462695
整理番号:10A0861059
Chemical vapour deposition and atomic layer deposition of amorphous and nanocrystalline metallic coatings: Towards deposition of multimetallic films
著者 (4件):
BLANQUET Elisabeth
(SIMaP, Grenoble-INP, CNRS, UJF, 1130 rue de la piscine, BP 75, 38402 Saint Martin d’Heres, FRA)
,
MANTOUX Arnaud
(SIMaP, Grenoble-INP, CNRS, UJF, 1130 rue de la piscine, BP 75, 38402 Saint Martin d’Heres, FRA)
,
PONS Michel
(SIMaP, Grenoble-INP, CNRS, UJF, 1130 rue de la piscine, BP 75, 38402 Saint Martin d’Heres, FRA)
,
VAHLAS Constantin
(CIRIMAT, ENSIACET, 4, allee Emile Monso, BP-44362, 31432 Toulouse Cedex 4, FRA)
資料名:
Journal of Alloys and Compounds
(Journal of Alloys and Compounds)
巻:
504
号:
Supplement 1
ページ:
S422-S424
発行年:
2010年08月
JST資料番号:
D0083A
ISSN:
0925-8388
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)