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文献
J-GLOBAL ID：201002239565630488
整理番号：10A0626874
SiO2基板上に作製されたパターンエッジ近傍でのグラフェン様薄膜の非触媒成長
Non-catalytic growth of graphene-like thin film near pattern edges fabricated on SiO2 substrates
SUZUKI Satoru
(NTT Basic Res. Laboratories, NTT Corp., Atsugi, Kanagawa, 243-0198, JPN)
,
KOBAYASHI Yoshihiro
(NTT Basic Res. Laboratories, NTT Corp., Atsugi, Kanagawa, 243-0198, JPN)
,
MIZUNO Tomoyuki
(Dep. of Integrated Design Engineering, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ., Hiyoshi, Yokohama 223-8522, JPN)
,
MAKI Hideyuki
(Dep. of Integrated Design Engineering, Fac. of Sci. and Technol., Keio Univ., Hiyoshi, Yokohama 223-8522, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 518 号： 18 ページ： 5040-5043 発行年： 2010年07月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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