文献
J-GLOBAL ID:201002241205248986
整理番号:10A0777965
閉じ込めブロックポリマのナノリソグラフィーパターンの予測
Predicting the Nanolithography Pattern of Confined Block Polymer
著者 (4件):
KIM Sang-Kon
(Hanyang Univ., Ansan, KOR)
,
OH Hye-Keun
(Hanyang Univ., Ansan, KOR)
,
JUNG Young-Dae
(Hanyang Univ., Ansan, KOR)
,
AN Ilsin
(Hanyang Univ., Ansan, KOR)
資料名:
Technical Digest of International Conference on Optics-photonics Design & Fabrication
(Technical Digest of International Conference on Optics-photonics Design & Fabrication)
巻:
7th
ページ:
323-324
発行年:
2010年
JST資料番号:
L4372A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)