文献
J-GLOBAL ID:201002242272647190
整理番号:10A0466869
シリコン(100)表面の大気圧酸素プラズマ活性化
Atmospheric oxygen plasma activation of silicon (100) surfaces
著者 (3件):
HABIB Sara B.
(Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Univ. of California at Los Angeles, P.O. Box 951592, Los Angeles ...)
,
GONZALEZ Eleazar
(Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Univ. of California at Los Angeles, P.O. Box 951592, Los Angeles ...)
,
HICKS Robert F.
(Dep. of Chemical and Biomolecular Engineering, Univ. of California at Los Angeles, P.O. Box 951592, Los Angeles ...)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
28
号:
3
ページ:
476
発行年:
2010年05月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)