文献
J-GLOBAL ID:201002242532049918
整理番号:10A0197683
局所表面放電プラズマを適用したマスクレス・エッチング技法の適用
Examination of Maskless Etching Technique Using a Localized Surface Discharge Plasma
著者 (3件):
HAMADA Toshiyuki
(Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
,
SAKODA Tatsuya
(Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
,
OTSUBO Masahisa
(Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
資料名:
IEEJ Transactions on Electrical and Electronic Engineering
(IEEJ Transactions on Electrical and Electronic Engineering)
巻:
5
号:
1
ページ:
115-117
発行年:
2010年01月
JST資料番号:
W1854A
ISSN:
1931-4973
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)