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文献
J-GLOBAL ID：201002242668371554
整理番号：10A0554912
極めて浅い接合の作成にホウ素に基づく低エネルギーイオン注入の損傷工学
Damage engineering of boron-based low energy ion implantations on ultrashallow junction fabrications
QIN Shu
(Micron Technol., Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
,
HU Y. Jeff
(Micron Technol., Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
,
MCTEER Allen
(Micron Technol., Inc., 8000 S. Federal Way, Boise, Idaho 83707)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 28 号： 3 ページ： 588 発行年： 2010年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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