文献
J-GLOBAL ID:201002242801097738
整理番号:10A0108752
多結晶ふっ化物(LiF,CaF2およびBa2)薄膜における電子スパッタリング収量に対する基板の効果
Substrate effect on electronic sputtering yield in polycrystalline fluoride (LiF, CaF2 and BaF2) thin films
著者 (6件):
KUMAR Manvendra
(Nanophosphor Application Centre, Univ. of Allahabad, Allahabad 211 002, IND)
,
KUMAR Manvendra
(Laboratorio Nazionale TASC-INFM, SS 14 Km 163.5, 34012 Trieste, ITA)
,
RAJPUT Parasmani
(UGC-DAE Consortium for Scientific Res., Univ. campus, Indore 452017, IND)
,
KHAN S.a.
(Inter Univ. Accelerator Centre, Post Box-10502, New Delhi 110 067, IND)
,
AVASTHI D.k.
(Inter Univ. Accelerator Centre, Post Box-10502, New Delhi 110 067, IND)
,
PANDEY A.c.
(Nanophosphor Application Centre, Univ. of Allahabad, Allahabad 211 002, IND)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
256
号:
7
ページ:
2199-2204
発行年:
2010年01月15日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)