文献
J-GLOBAL ID:201002243047683036
整理番号:10A1461741
半導体製造プロセスのフォトリソグラフィー段階を最適化,モデリングする事例研究
A Case Study on Modeling and Optimizing Photolithography Stage of Semiconductor Fabrication Process
著者 (3件):
KIM Hyun-Jin
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
,
KIM Kwang-Jae
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
,
KWAK Doh-Soon
(Pohang Univ. Sci. and Technol., Pohang, KOR)
資料名:
Quality and Reliability Engineering International
(Quality and Reliability Engineering International)
巻:
26
号:
7
ページ:
765-774
発行年:
2010年11月
JST資料番号:
C0764C
ISSN:
0748-8017
CODEN:
QREIE5
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)