文献
J-GLOBAL ID:201002243233911049
整理番号:10A1456899
液相析出酸化物マスクによるエッチングを基にしたシリコンテクスチャリング法
A Silicon Texturing Technique Based on Etching Through a Liquid-Phase Deposited Oxide Mask
著者 (2件):
ESFANDIARPOUR Behzad
(Univ. Waterloo, Ontario, CAN)
,
SIVOTHTHAMAN Siva
(Univ. Waterloo, Ontario, CAN)
資料名:
Electrochemical and Solid-State Letters
(Electrochemical and Solid-State Letters)
巻:
13
号:
12
ページ:
D97-D99
発行年:
2010年
JST資料番号:
W1290A
ISSN:
1099-0062
CODEN:
ESLEF6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)