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文献
J-GLOBAL ID：201002243358315065
整理番号：10A0038024
ECALEにより析出したニッケル硫黄薄膜:電気化学,XPS及びAFMキャラクタリゼーション
Nickel sulfur thin films deposited by ECALE: Electrochemical, XPS and AFM characterization
LOGLIO F.
(Dipartimento di Chimica, Universita di Firenze, Via della Lastruccia 3, 50019 Sesto Fiorentino (FI), ITA)
,
INNOCENTI M.
(Dipartimento di Chimica, Universita di Firenze, Via della Lastruccia 3, 50019 Sesto Fiorentino (FI), ITA)
,
JAREK A.
(AGH Univ. of Sci. and Technol., Fac. of Non-Ferrous Metals, Dep. of Physical Chemistry and Metallurgy of Non-Ferrous ...)
,
CAPORALI S.
(Dipartimento di Chimica, Universita di Firenze, Via della Lastruccia 3, 50019 Sesto Fiorentino (FI), ITA)
,
PASQUINI I.
(Dipartimento di Chimica, Universita di Firenze, Via della Lastruccia 3, 50019 Sesto Fiorentino (FI), ITA)
,
FORESTI M.l.
(Dipartimento di Chimica, Universita di Firenze, Via della Lastruccia 3, 50019 Sesto Fiorentino (FI), ITA)
資料名：
Journal of Electroanalytical Chemistry
(Journal of Electroanalytical Chemistry)
巻： 638 号： 1 ページ： 15-20 発行年： 2010年01月05日
JST資料番号： D0037A ISSN： 1572-6657 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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