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文献
J-GLOBAL ID：201002244397719854
整理番号：10A0467464
シリコンと直接接触の高k誘電体に関するケイ酸ランタンの界面および電気的性質
Interface and electrical properties of La-silicate for direct contact of high-k with silicon
KAKUSHIMA K.
(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku ...)
,
TACHI K.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
ADACHI M.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
OKAMOTO K.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
SATO S.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
SONG J.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
KAWANAGO T.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
AHMET P.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
TSUTSUI K.
(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku ...)
,
SUGII N.
(Interdisciplinary Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku ...)
,
HATTORI T.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
,
IWAI H.
(Frontier Res. Center, Tokyo Inst. of Technol., 4259, Nagatsuta, Midori-ku, Yokohama 226-8502, JPN)
資料名：
Solid-State Electronics
(Solid-State Electronics)
巻： 54 号： 7 ページ： 715-719 発行年： 2010年07月
JST資料番号： H0225A ISSN： 0038-1101 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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