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文献
J-GLOBAL ID:201002244740037438   整理番号:10A1539064

シリセンシートのエピタキシャル成長

Epitaxial growth of a silicene sheet
著者 (7件):
LALMI Boubekeur
(CINaM-CNRS, Campus de Luminy, Case 913, Marseille 13288, FRA)
OUGHADDOU Hamid
(CEA, DSM-IRAMIS-SPCSI, Bat. 462, Saclay, Gif-sur-Yvette 91191, FRA)
ENRIQUEZ Hanna
(CEA, DSM-IRAMIS-SPCSI, Bat. 462, Saclay, Gif-sur-Yvette 91191, FRA)
KARA Abdelkader
(Dep. of Physics, Univ. of Central Florida, Orlando, Florida 32816, USA)
VIZZINI Sebastien
(IM2NP, Fac. des Sciences de Saint-Jerome, Aix-Marseille Univ., Case 142, Marseille 13397, FRA)
EALET Benidicte
(CINaM-CNRS, Campus de Luminy, Case 913, Marseille 13288, FRA)
AUFRAY Bernard
(CINaM-CNRS, Campus de Luminy, Case 913, Marseille 13288, FRA)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 97  号: 22  ページ: 223109  発行年: 2010年11月29日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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