文献
J-GLOBAL ID:201002244740037438
整理番号:10A1539064
シリセンシートのエピタキシャル成長
Epitaxial growth of a silicene sheet
著者 (7件):
LALMI Boubekeur
(CINaM-CNRS, Campus de Luminy, Case 913, Marseille 13288, FRA)
,
OUGHADDOU Hamid
(CEA, DSM-IRAMIS-SPCSI, Bat. 462, Saclay, Gif-sur-Yvette 91191, FRA)
,
ENRIQUEZ Hanna
(CEA, DSM-IRAMIS-SPCSI, Bat. 462, Saclay, Gif-sur-Yvette 91191, FRA)
,
KARA Abdelkader
(Dep. of Physics, Univ. of Central Florida, Orlando, Florida 32816, USA)
,
VIZZINI Sebastien
(IM2NP, Fac. des Sciences de Saint-Jerome, Aix-Marseille Univ., Case 142, Marseille 13397, FRA)
,
EALET Benidicte
(CINaM-CNRS, Campus de Luminy, Case 913, Marseille 13288, FRA)
,
AUFRAY Bernard
(CINaM-CNRS, Campus de Luminy, Case 913, Marseille 13288, FRA)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
97
号:
22
ページ:
223109
発行年:
2010年11月29日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)