文献
J-GLOBAL ID:201002245538982283
整理番号:10A0786216
ポジ型フォトレジスト特性を用いた三次元微細構造技術
A three-dimensional microstructuring technique exploiting the positive photoresist property
著者 (4件):
HIRAI Yoshikazu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
SUGANO Koji
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TSUCHIYA Toshiyuki
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TABATA Osamu
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
20
号:
6
ページ:
065005,1-13
発行年:
2010年06月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)