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J-GLOBAL ID：201002245822722372 整理番号：10A0235455

リソグラフィーのためのXeベースのZ-ピンチ放電生成プラズマ(DPP)EUV光源

Xe-based Z-pinch Discharged Produced Plasma (DPP) EUV Source for Lithography

著者 (4件)：

HUANG Bin

(Tokyo Inst. Technol.)

TAKIMOTO Yasuhiro

(Tokyo Inst. Technol.)

WATANABE Masato

(Tokyo Inst. Technol.)

HOTTA Eiki

(Tokyo Inst. Technol.)

資料名：

電気学会パルスパワー研究会資料 (電気学会研究会資料)

巻： PPT-10 号： 19-20.22-23 ページ： 15-18 発行年： 2010年02月22日
JST資料番号： L4030A 資料種別：会議録 (C)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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