文献
J-GLOBAL ID:201002245956924184
整理番号:10A0731801
マスクモデル追加によるウエハLMC精度の向上
Wafer LMC Accuracy Improvement by Adding Mask Model
著者 (6件):
LO Wei Cyuan
(United Microelectronics Corp., Tainan County, TWN)
,
CHENG Yung Feng
(United Microelectronics Corp., Tainan County, TWN)
,
CHEN Ming Jui
(United Microelectronics Corp., Tainan County, TWN)
,
HUANG Peter
(United Microelectronics Corp., Tainan County, TWN)
,
CHANG Stephen
(Brion Technol., CA, USA)
,
TSUJIMOTO Eiji
(Dai Nippon Printing Co., Saitama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7640
号:
Pt.2
ページ:
76402S.1-76402S.8
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)