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文献
J-GLOBAL ID：201002246461275356
整理番号：10A0052813
マグネトロンスパッタリングによって蒸着したMg-Zr-O保護膜のミクロ構造及び放電特性に対する酸素分圧の影響
Influence of oxygen partial pressure on microstructure and discharge properties of Mg-Zr-O protective films deposited by magnetron sputtering
WANG Jianfeng
(State Key Lab. for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN)
,
WU Huiyan
(State Key Lab. for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN)
,
SONG Zhongxiao
(State Key Lab. for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN)
,
LI Yanhuai
(State Key Lab. for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN)
,
XU Kewei
(State Key Lab. for Mechanical Behavior of Materials, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN)
,
LIU Chunliang
(Key Lab. of Electronic Physics and Devices of Ministry of Education, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an 710049, CHN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 28 号： 1 ページ： 88 発行年： 2010年01月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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