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文献
J-GLOBAL ID：201002247084924014
整理番号：10A0624733
ピクセル曝露リソグラフィーを用いた任意3D構造の作製に関する研究
Study on Fabrication of Arbitrary 3-D Structures Utilizing Pixels Exposed Lithography
HORADE M.
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
,
HORADE M.
(Japan Soc. Promotion of Sci.)
,
SUGIYAMA S.
(Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
資料名：
Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University
(Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University)
号： 12 ページ： 101-110 発行年： 2010年05月
JST資料番号： L4610A ISSN： 1345-1650 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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