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文献
J-GLOBAL ID：201002248845305859
整理番号：10A0731663
22nm以下のノード用の先端的自己整列DP工程の開発
Advanced self-aligned DP process development for 22-nm node and beyond
HARA Arisa
(Tokyo Electron LTD Leading-edge Process Dev. center)
,
NISHIMURA Eiichi
(Tokyo Electron AT LTD AT-Technol. Dev. Center, Yamanashi, JPN)
,
KUSHIBIKI Masato
(Tokyo Electron AT LTD AT-Technol. Dev. Center, Yamanashi, JPN)
,
YAMAUCHI Shoichi
(Tokyo Electron LTD Leading-edge Process Dev. center)
,
NATORI Sakurako
(Tokyo Electron LTD Leading-edge Process Dev. center)
,
YABE Kazuo
(Tokyo Electron LTD Leading-edge Process Dev. center)
,
OYAMA Kenichi
(Tokyo Electron LTD Leading-edge Process Dev. center)
,
YAEGASHI Hidetami
(Tokyo Electron LTD Leading-edge Process Dev. center)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 7639 号： Pt.2 ページ： 76391T.1-76391T.7 発行年： 2010年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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