文献
J-GLOBAL ID:201002250540653665
整理番号:10A0715575
コヒーレントな集束X線ナノビームにより照射したケイ素薄膜からの運動論的回折のモデリング
Modeling of kinematic diffraction from a thin silicon film illuminated by a coherent, focused X-ray nanobeam
著者 (6件):
YING Andrew
(Columbia Univ., NY, USA)
,
OSTING Braxton
(Columbia Univ., NY, USA)
,
NOYAN I. C.
(Columbia Univ., NY, USA)
,
MURRAY Conal E.
(IBM T.J. Watson Res. Center, NY, USA)
,
HOLT Martin
(Argonne National Lab., IL, USA)
,
MASER Joerg
(Argonne National Lab., IL, USA)
資料名:
Journal of Applied Crystallography
(Journal of Applied Crystallography)
巻:
43
号:
3
ページ:
587-595
発行年:
2010年06月
JST資料番号:
D0631A
ISSN:
0021-8898
CODEN:
JACGAR
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)