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文献
J-GLOBAL ID:201002254034886789   整理番号:10A0710837

ジアゾ/PVAレジストへのクリプタンドの応用

Application of Cryptand to Diazo/PVA Resists
著者 (8件):
OKADA Masaki
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
HARADA Kieko
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
TAKAMURA Naohide
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
HIAKI Toshihiko
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
MATSUDA Kiyomi
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
HAMANA Hiroshi
(Saitama Inst. Technol., Saitama, JPN)
TAKAHARA Shigeru
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
SUGITA Kazuyuki
(Chiba Univ., Chiba, JPN)

資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻: 23  号:ページ: 413-416  発行年: 2010年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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