文献
J-GLOBAL ID:201002254034886789
整理番号:10A0710837
ジアゾ/PVAレジストへのクリプタンドの応用
Application of Cryptand to Diazo/PVA Resists
著者 (8件):
OKADA Masaki
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
HARADA Kieko
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
TAKAMURA Naohide
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
HIAKI Toshihiko
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
MATSUDA Kiyomi
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
HAMANA Hiroshi
(Saitama Inst. Technol., Saitama, JPN)
,
TAKAHARA Shigeru
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
SUGITA Kazuyuki
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
23
号:
3
ページ:
413-416
発行年:
2010年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)