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文献
J-GLOBAL ID:201002254084923537   整理番号:10A0464374

自己組織化を用いた超撥水・無反射シリコン微細構造体の作製

著者 (9件):
平井悠司
(東北大 工)
藪浩
(東北大 多元物質科研)
松尾保孝
(北大 電子科研)
松尾保孝
(JST-CREST)
居城邦治
(北大 電子科研)
居城邦治
(JST-CREST)
下村政嗣
(東北大 多元物質科研)
下村政嗣
(JST-CREST)
下村政嗣
(東北大 WPI原子分子材料機構)

資料名:
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)

巻: 57th  ページ: ROMBUNNO.18P-ZE-9  発行年: 2010年03月03日 
JST資料番号: Y0054B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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