文献
J-GLOBAL ID:201002254395640032
整理番号:10A0685097
193nm装置によるEUVマスクブランクの検査
Inspecting EUV mask blanks with a 193-nm system
著者 (4件):
STOKOWSKI Stan
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
GLASSER Joshua
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
INDERHEES Gregg
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
SANKURATRI Phani
(Phani Sankuratri, CA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
7636
号:
Pt.1
ページ:
76360Z.1-76360Z.9
発行年:
2010年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)