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文献
J-GLOBAL ID：201002254396863795
整理番号：10A1542835
5kV多電子ビームリソグラフィ: MAPPERツールとレジストプロセス特性評価
5 kV multielectron beam lithography: MAPPER tool and resist process characterization
RIO D.
(CEA Grenoble-MINATEC, 17 rue des Martyrs, F38054 Grenoble, FRA)
,
CONSTANCIAS C.
(CEA Grenoble-MINATEC, 17 rue des Martyrs, F38054 Grenoble, FRA)
,
MARTIN M.
(CEA Grenoble-MINATEC, 17 rue des Martyrs, F38054 Grenoble, FRA)
,
ICARD B.
(CEA Grenoble-MINATEC, 17 rue des Martyrs, F38054 Grenoble, FRA)
,
VAN NIEUWSTADT J.
(MAPPER Lithography B.V., Computerlaan 15, 2628 XK Delft, NLD)
,
VIJVERBERG J.
(MAPPER Lithography B.V., Computerlaan 15, 2628 XK Delft, NLD)
,
PAIN L.
(CEA Grenoble-MINATEC, 17 rue des Martyrs, F38054 Grenoble, FRA)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 28 号： 6 ページ： C6C14 発行年： 2010年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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