文献
J-GLOBAL ID:201002254737087853
整理番号:10A0565128
Cu/VN/SiO2/Si系の破損に導くナノ結晶VN障壁における微細構造の発達
Evolution of Microstructures in Nanocrystalline VN Barrier Leading to Failure in Cu/VN/SiO2/Si Systems
著者 (3件):
TAKEYAMA Mayumi B.
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
ITOI Takaomi
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
NOYA Atsushi
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
49
号:
5,Issue 3
ページ:
05FA05.1-05FA05.5
発行年:
2010年05月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)